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圖片4

蟠龍-LNY-1KG CVD

單次處理1公斤微納顆粒的氣相沉積包覆設備
可高溫上下料
利用流化床分散設計

蟠龍-LNY-1KG  CVD Technical Specifications

系統配置

 

1.尺寸 (長(cháng) x 寬 x 高)

單體 3700mm×1280mm×3100mm

包括

2.重量 (KG)

單體 2100Kg

3.電源

單體 17KW  380 VAC   40A

4.基礎系統功能及配置

微納顆粒氣相沉積包覆設備

基本功能

可在微納顆粒樣品上實(shí)現 氣相原子層沉積  膜層生長(cháng)工藝

樣品重量

克級別粉末,優(yōu)化工藝一般推薦 1kg 以?xún)?/span>

工藝溫度

工藝溫度范圍從室溫到 900°C

工藝配件

配備 氣相沉積包覆工藝套件,具有高溫密封和優(yōu)化氣流設計

5.特色

高溫反應腔體設計, 可自動(dòng)運行流化

包括

 

底部攪拌系統,實(shí)現工藝中粉體的均勻分散,易于清潔及操作, 保證工藝重復性

包括

 

最高工藝溫度 900 °C,為多膜系研發(fā)開(kāi)發(fā)設計

包括

 

有上下料罐設計,可以實(shí)現自動(dòng)連續的加工和實(shí)驗

包括

 

共 4 路氣體注入管道, 可以注入3種不同工藝氣體,有惰性氣體沖洗設計,可以避免危險氣體在管道內的殘留

包括

 

多道安全控制, 可編輯配方,完整的數據記錄和易于使用的 GUI 界面

包括

 

多種定制化選項

可選

產(chǎn)品詳情

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